El horno de deposición de vapor químico de carburo de silicio se utiliza para sinteros de carbono-carbono y materiales compuestos de carbono-cerámica. El equipo piroliza el gas de la fuente de carbono para hacer que la preforma sea densa o recubierta. Entre ellos, el equipo rápido de deposición de vapor (CVI) tiene una mayor utilización de carbono y una mayor eficiencia de producción.
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El horno de deposición de vapor químico de carbono de carbono se utiliza para los productos sinteros de carbono-carbono y los productos compuestos de carbono-cerámica. El equipo piroliza el gas de la fuente de carbono para que la preforma obtenga un tratamiento denso o tratamiento de recubrimiento. Entre ellos, el equipo rápido de deposición de vapor (CVI) tiene una mayor tasa de utilización de carbono y una mayor eficiencia de producción.
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El horno de depósito de vapor CVD se utiliza para los productos sinteros de carbono-carbono y de carbono-cerámica compuesta. El equipo piroliza el gas de la fuente de carbono para que la preforma obtenga un tratamiento denso o tratamiento de recubrimiento. Entre ellos, el equipo rápido de deposición de vapor (CVI) tiene una mayor tasa de utilización de carbono y una mayor eficiencia de producción.
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